製品検索結果一覧

長年に渡る排ガス処理装置（除害装置）の開発・設計・製作のノウハウをもとに、お客様のご使用条件にあった最適な設備をご提供致します。吸着式除害装置では、処理対象ガスに最適な乾式除害剤の組み合わせにより、確実に排ガス処理を行います。研究用の小規模なものから生産工場用の大型装置まで豊富なラインナップで対応します。

MOCVD（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）装置とは、原料に有機金属やガスを用いながら化合物半導体の成膜を行う装置のことです。近年、LEDやスマートフォン、自動運転システムを搭載した電気自動車が社会を劇的に豊かにしています。これらの画期的なデバイスの中核をなす材料として、化合物半導体は不可欠な材料であり、化合物半導体の製造には当社のようなMOCVD装置が必要とされています。当社は1983年に自社開発の商業用MOCVDを世界で初めて導入しました。現在では用途（研究用、量産用）、原料（GaN（窒化ガリウム）、Ga2O3（酸化ガリウム）、GaAs/InP（ガリウムヒ素/インジウムリン））、ウェハサイズ・枚数（2インチ×単数・複数枚）等によって、様々なタイプの装置を研究・製造・販売しています。

窒素製造装置は弊社が1960年代より改良を重ね、高性能化・シリーズ化を進めてきました。現在では化学、硝子、繊維、金属、食品などの一般産業向けに開発されたタイプ、半導体産業用の高純度タイプ、小規模需要に対応したコンパクトタイプなどの多彩なラインアップで、あらゆる産業のご要望にお応えします。

空気分離装置は空気を圧縮、冷却液化し、蒸留により酸素・窒素・アルゴンに分離する装置です。1935年、大陽日酸は、わが国初の空気分離装置の国産化に成功しました。豊富な経験と高度な技術力を活かし、鉄鋼・電力・銅精錬・化学・石油精製・硝子などのあらゆる分野の産業に対して、小型から超大型まであらゆる規模の空気分離装置を提供します。

半導体製造装置直前での末端精製を目的としたインライン式の小型精製器です。化学吸着、物理吸着により各種不純物成分を除去し、特殊材料ガスやバルクガスを超高純度に精製します。

大陽日酸では、半導体・電子部品量産工場や大学・研究所をターゲットに高圧ガス保安法に準拠したシリンダーキャビネットや特殊材料ガスの大量供給システム(BSGS)をご提供しております。ガスの種類・ご使用量・ご使用圧力に応じた最適なシリンダーキャビネットをご提案致します。

長年に渡る排ガス処理装置（除害装置）の開発・設計・製作のノウハウをもとに、お客様のご使用条件にあった最適な設備をご提供致します。燃焼式除害装置は、CVDプロセスやエッチングプロセスで排出される可燃性、毒性ガス及びPFC等の難分解性ガスを副生成物（NOx、CO等）を抑制し、高効率で燃焼分解します。

半導体・液晶前工程にてご使用されるイオン注入に最適な荷姿・容量にてご提供します。

大陽日酸は窒素、酸素、水素、アルゴン、ヘリウムおよびアンモニア精製装置のトップカンパニーです。原料ガス中の酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、水素および水分等の不純物成分を吸着除去して、対象ガスを超高純度に精製します。豊富なラインナップから最適な精製方式をご提供いたします。

お客様の生産工場・研究施設の規模やご使用されている特殊材料ガスに最適なシステムをご提供致します。

大陽日酸のガス分析技術を活かして開発した当社固有の微量酸素分析計です。黄燐を用いた分析によって安全かつ高反応、高速での測定を実現します。

半導体・液晶前工程にてご使用される高品位な材料ガスを用途毎（エピタキシャル成長、CVD、エッチングおよびイオン注入）に最適な荷姿・容量にてご提供します。

検査機器の校正、各種成分ｶﾞｽの測定条件に応じてご提供致します。

特定不純物が一定濃度以下で保証された単成分の高純度ガスです。