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2025/07/07
ニュースリリース

ポーランド科学アカデミー高圧物理研究所(Unipress)に
複数台の当社製MOCVD装置納入が決定

日本酸素ホールディングスグループの日本産業ガス事業会社である大陽日酸株式会社（本社：東京都品川区 代表取締役社長：永田 研二、以下「当社」）は、ポーランドの科学アカデミー高圧物理研究所(以下「Unipress」)に複数台の当社製MOCVD装置※1を納入することが決定しました。 

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納入予定と同型の装置外観


Unipressに納入する当社製MOCVD装置（型式：SR4000HT）は、同研究所で確立した世界クラスのGaNバルク結晶成長技術と組み合わせる事を可能とし、窒化物材料のエピタキシャル成長の研究開発を加速させます。また、その他のワイドバンドギャップ半導体※2製造にも用いられ、窒化物半導体の開発に貢献することが期待されます。

当社はUnipressと協力し、先進的な窒化物半導体デバイスの研究開発を支援することで、当社製MOCVD装置のグローバル市場に対する優位性が促進されると期待しています。

※1 MOCVD（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）装置：原料に有機金属やガスを用いながら基板上に化合物半導体の成膜を行う装置。

※2 ワイドバンドギャップ半導体：窒化アルミニウムや酸化ガリウムなど、電子やホールが価電子帯から伝導体に遷移するためのエネルギー値が高い半導体。その特性は、高温での動作や高電圧での動作に優れ、高電力・高周波アプリケーションや高温環境での使用に適しているとされることから、電気自動車や再生可能エネルギーの分野など、幅広い用途が見込まれている。


本件に関するお問い合わせ
大陽日酸株式会社
広報部: 03-5788-8015

製品に関するお問い合わせ
イノベーションユニット
ＣＳＥ事業部:
045-872-1822

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