大陽日酸は、出願した特許を自社における実施に留まらず他者へのライセンス供与など有効活用を図るため、独立行政法人工業所有権情報・研修館が運営する「開放特許情報データベース」に登録し、広く開放しています。
プラズマ処理によって損傷した絶縁膜を、量産性に優れたドライプロセスにより回復させる方法と、その回復剤に関する技術。
半導体絶縁膜のダメージ回復方法
地球温暖化に影響を与えるフッ素含有ガスの排出を抑制するとともに、各種パーツの損傷を抑えつつ、高いクリーニング特性を維持するチャンバー内をクリーニング技術。
半導体製造装置の洗浄方法
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