本システムでは、JavaScriptを利用しています。JavaScriptを有効に設定してからご利用ください。
本文へ
News
採用情報
お問い合わせ
SDS検索
JP
EN
事業・製品
事業・製品トップ
産業ガス
産業ガストップ
産業ガスの利用分野
産業ガスの安定供給
エレクトロニクス
プラント・エンジニアリング
メディカル
イノベーション
取扱い製品一覧
SDS（安全データシート）検索
技術データブック
事業部サイト一覧
国内ガス生産拠点
会社情報
会社情報トップ
社長メッセージ
企業理念
会社概要
方針一覧
行動規範
事業所一覧
主要関係会社
沿革
こんなところに大陽日酸
電子公告
サステナビリティ
サステナビリティトップ
サステナビリティの取り組み
サステナビリティの取り組みトップ
地球環境のために
社員のために
お客さま、ご利用者のために
子どもたちのために
誰もが働ける会社のために
サステナビリティデータ
研究開発
研究開発トップ
研究開発拠点
大陽日酸技報
大陽日酸技報トップ
No.42（2023年）
No.42（2023年）
No.42（2023年）
大陽日酸技報に関するお問い合わせ
大陽日酸技報 No.42(2023)
No.41（2022年）
No.40（2021年）
No.39（2020年）
No.38（2019年）
No.37（2018年）
No.36（2017年）
No.35（2016年）
No.34（2015年）
No.33（2014年）
No.32（2013年）
No.31（2012年）
No.30（2011年）
No.29（2010年）
No.28（2009年）
No.27（2008年）
No.26（2007年）
No.25（2006年）
No.24（2005年）
No.23（2004年）
No.42（2023年）
知的財産活動
知的財産活動トップ
特許紹介
特許紹介トップ
容器弁 -メディカル分野
酵素反応試薬、試薬キット及び液の保存方法 -メディカル分野
ガス遮断弁装置 -メディカル分野
MG型窒素製造装置 -プラント・エンジニアリング分野
補助塔付 複式空気分離装置 -プラント・エンジニアリング分野
空気分離における原料空気の精製方法 -プラント・エンジニアリング分野
現地組み立て式低温液化ガス貯槽 -プラント・エンジニアリング分野
水素除去装置 -プラント・エンジニアリング分野
空気分離における低純度酸素の製造方法及び装置 -プラント・エンジニアリング分野
低温液化ガスポンプ－プラント -プラント・エンジニアリング分野
宇宙環境試験装置 -プラント・エンジニアリング分野
空気液化分離方法及び装置－プラント・エンジニアリング分野
LNG モバイルサテライトシステム -プラント・エンジニアリング分野
MOCVD -エレクトロニクス分野
液化ガス容器の加熱装置 -エレクトロニクス分野
液化ガスの供給方法 -エレクトロニクス分野
MOCVD装置の洗浄技術 -エレクトロニクス分野
ガス供給装置 -エレクトロニクス分野
気相成長装置 -エレクトロニクス分野
排ガス処理装置-エレクトロニクス分野
液化ガス供給方法 -エレクトロニクス分野
複数液化ガス容器からの供給方法 -エレクトロニクス分野
液化ガス容器の加熱方法 -エレクトロニクス分野
溶融金属用カバーガスの供給装置 -産業ガス分野
シロキサン除去方法 -産業ガス分野
バーナの燃焼方法 -産業ガス分野
メタン分離方法、装置及びメタン利用システム -産業ガス分野
ガス切断方法及び装置 -産業ガス分野
複合溶接方法及び複合溶接用トーチ -産業ガス分野
溶接施工方法及び溶接構造物 -産業ガス分野
高圧且つ高純度の窒素ガス供給装置及び供給方法 -産業ガス分野
レーザ加工機用窒素供給装置 -産業ガス分野
高温超電導機器の冷却装置及びその運転方法 -産業ガス分野
バーナ燃焼方法 -産業ガス分野
ガス切断方法および装置 -産業ガス分野
試料自動入出庫機能付 凍結保存装置 ～クライオライブラリー®アドバンス～ -メディカル分野
TIG溶接用トーチ -産業ガス分野
溶接用トーチ及びアダプタキット -産業ガス分野
有償開放特許紹介
公的研究費および研究活動の適正運用に向けた取り組み
採用情報
Our Technology
News
お問い合わせ
お問い合わせトップ
お問い合わせフォーム
容器回収について
容器回収についてトップ
容器回収依頼
サイトマップ
免責事項
利用規約
個人情報保護方針
クッキー（Cookie）ポリシー
大陽日酸グループ ソーシャルメディア利用規約
事業・製品
Divisiton Website List
産業ガス
エレクトロニクス
プラント・エンジニアリング
メディカル
イノベーション
取扱い製品一覧
SDS（安全データシート）検索
技術データブック
事業部サイト一覧
国内ガス生産拠点
会社情報
Company Information
社長メッセージ
企業理念
会社概要
方針一覧
行動規範
事業所一覧
主要関係会社
沿革
こんなところに大陽日酸
電子公告
大陽日酸公式YouTubeチャンネル
サステナビリティ
Sustainability
サステナビリティの取り組み
サステナビリティデータ
日本酸素ホールディングス統合報告書
研究開発
Research / Development
研究開発拠点
大陽日酸技報
知的財産活動
公的研究費および研究活動の適正運用に向けた取り組み
製品詳細
Product Details
ホーム
>
事業・製品
>
取扱い製品一覧
>
製品検索結果一覧
>
製品詳細
粒状・微粉凍結装置（Bistranza-IQF）
-196℃の液化窒素の冷熱を利用する液体の粒状凍結装置です。製品形状は球状に近く、直径数十ミクロン～数ミリサイズの製造が可能です。ノンフロンシステムなので、環境にやさしい装置です。
製品詳細ページ
製品お問い合わせフォーム
大陽日酸株式会社
工業ガスユニット ガス事業部 営業開発
TEL 03-5788-8305
関連 - サービス・事業別
ガス利用技術機器
高圧ガス保安教育支援サービス
関連 - 業界・業種別
化学
食品
生命科学・医療
関連 - 目的・用途別
窒素を使用したい
凍結・冷却をしたい
温室効果ガス排出量を削減したい
サービス・事業別
業界・業種別
目的・用途別
キーワード検索
サービス・事業別
産業ガス
溶接切断用ガス
ガス利用技術機器
医療用ガス
医療機器
バイオ機器
高圧ガス保安教育支援サービス
医療ガスパイピングシステム
半導体関連特殊ガス
宇宙・航空関連
プラント関連
環境貢献製商品
半導体関連機器
半導体材料ガス配管工事
高純度バルクガス
産業ガス配管工事
エネルギー関連（LP・LNG等）
キーワード検索
業界・業種別
鉄鋼・非鉄
輸送機器・機械
宇宙・航空
建設
化学
半導体・電子部品
食品
生命科学・医療
環境・エネルギー
その他
医療
輸送機器・機械半導体・電子部品生命科学・医療
半導体製造装置
ウェーハプロセス用処理装置
薄膜形成装置
キーワード検索
目的・用途別
窒素を使用したい
酸素を使用したい
酸化を防止したい
燃焼効果を向上したい
凍結・冷却をしたい
溶接品質を改善したい
熱処理をしたい
爆発・燃焼を防止したい
高圧ガスを安全に使いたい
金属を切断したい
乾燥させたい
真空環境を作りたい
ガスを作りたい
ガスを精製したい
ガスの分析をしたい
安全にガスを使用・消費したい
ガス供給現場を省人化したい
医療関係で使用したい
温室効果ガス排出量を削減したい
金属を球状化したい
バリを取りたい
洗浄したい
養殖をしたい
食品ロスを減らしたい
危険なガスを無害化処理したい
医療ガス関係で使用したい
医療機器関係で使用したい
バイオ機器関係で使用したい
高品質なガスを使いたい
半導体で使いたい
分析で使いたい
排ガス分析で使いたい
大気･土壌･水質中の有害物質を測定したい
液晶で使いたい
電池で使いたい
イオン注入したい
最先端研究・商品開発を支えたい
脱炭素社会に貢献する装置を作りたい
ウェハ上に均一に成膜したい
全世界に向けた装置を作りたい
ヘリウムを使用したい
ページトップへ