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C3H6　　プロピレン
Propylene
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
C2F6　　フロン-116
Hexafluoro Ethane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜クリーニング(Cleaning)
C4F6　　ヘキサフルオロ1,3ブタジエン
Hexafluoro-1,3-butadiene
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜クリーニング(Cleaning)
CO　　一酸化炭素
Carbon monoxide
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜クリーニング(Cleaning)
C3F8　　フロン-218
Octafluoro Propane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜クリーニング(Cleaning)
C5F8　　オクタフルオロシクロペンテン ZFL-58
Octafluorocyclopentene
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
CF4　　フロン-14
Tetrafluoromethane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
COS　　硫化カルボニル
Carbonyl Sulfide
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
CH2F2　　フロン-32
Difluoromethane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜クリーニング(Cleaning)
CHF3　　フロン-23
Trifluoromethane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
CH3F　　フロン-41
Methyl Fluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
Cl2　　塩素
Chlorine
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
C8H22N2Si　　BDEAS（ビスジエチルアミノシラン）
Bis Diethyl Amino Silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
((CH3)2N)3SiH　　3DMAS（トリスジメチルアミノシラン）
Tris dimethyl amino silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
C2H2　　溶解アセチレン
Acetylene
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
CO2　　二酸化炭素（炭酸ガス）
Carbon dioxide
高純度ガス(Pure Gases)｜無機ガス(Inorganic Gases)
CO　　一酸化炭素
Carbon monoxide
高純度ガス(Pure Gases)｜無機ガス(Inorganic Gases)
CH4　　メタン
Methane
高純度ガス(Pure Gases)｜有機ガス(Organic Gases)
C2H4　　エチレン
Ethylene
高純度ガス(Pure Gases)｜有機ガス(Organic Gases)
C2H6　　エタン
Ethane
高純度ガス(Pure Gases)｜有機ガス(Organic Gases)
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