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B(OCH3)3　　TMB（トリメチルボレート）
Tri Methyl Borate
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B(OC2H5)3　　TEB（トリエチルボレート）
Tri ethyl Borate
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C8H22N2Si　　BDEAS（ビスジエチルアミノシラン）
Bis Diethyl Amino Silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
Si2Cl6　　HCDS（ヘキサクロロジシラン）
Hexa chrolo disilane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
((CH3)2N)3SiH　　3DMAS（トリスジメチルアミノシラン）
Tris dimethyl amino silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
TiCl4　　四塩化チタン
Titanium(IV) Chloride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜High-K(High-K)
MoO2Cl2　　モリブデンジクロライドジオキサイド
Molybdenum dichloride dioxide
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
SDS PF3　　SDS 三フッ化リン
SDS phosphorus trifluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
VAC H2+72GeF4　　VAC H2+72GeF4
VAC 72Ge-enrichedGermanium tetrafluoride, hydrogen
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
VAC H2+11BF3　　VAC H2+11BF3
VAC 11B-enriched boron trifluoride, hydrogen
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
C2H2　　溶解アセチレン
Acetylene
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
N2O　　亜酸化窒素
Nitrous oxide
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HFO-1234yf　　HFO1234yf
HFO-1234yf
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
Al(CH3)3　　TMA（トリメチルアルミニウム）
Trimetylaluminuim
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜High-K(High-K)
Ga(CH3)3　　TMG（トリメチルガリウム）
TriMetylGallium
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜High-K(High-K)
SiHCl3　　トリクロロシラン
Tri Chrolo Silane
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SiCl4　　四塩化ケイ素
Tetra Chrolo Silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜Epi(Epitaxial growth)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
ND3　　重水素化アンモニア
Deuterated ammonia
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N2H4　　BruteN2H4（Brute ヒドラジン）
Brute Hydrazine
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H2O2　　BruteH2O2（Brute 過酸化水素）
Brute Hydrogen Peroxide
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