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SiH4　　モノシラン
Silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜太陽電池(Photovoltaic)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
SiH2Cl2　　ジクロロシラン
Dichlorosilane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
Si2H6　　ジシラン
Disilane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
SiF4　　四フッ化ケイ素
Silicon Tetrafluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SF6　　六フッ化硫黄
Sulfur Hexafluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜その他(Other)
SDS AsH3　　SDS アルシン
SDS Arsine
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SDS4 AsH3　　SDS4 アルシン
SDS4 Arsine
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SDS PH3　　SDS ホスフィン
SDS Phosphine
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SDS4 PH3　　SDS4 ホスフィン
SDS4 Phosphine
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SDS 11BF3　　SDS 三フッ化ホウ素
SDS Enriched Boron Trifluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SDS SiF4　　SDS 四フッ化ケイ素
SDS Silicon Tetrafluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SDS GeF4　　SDS 四フッ化ゲルマニウム
SDS Germanium tetrafluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SDS 72GeF4　　SDS エンリッチ四フッ化ゲルマニウム
SDS Enriched Germanium tetrafluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SDS H2Se　　SDS セレン化水素
SDS Hydrogen Selenide
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
Si(OC2H5)4　　TEOS（テトラエトキシシラン）
Tetra Ethoxy Silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
Si2Cl6　　HCDS（ヘキサクロロジシラン）
Hexa chrolo disilane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜ALD(Atomic Layer Deposition)
SDS PF3　　SDS 三フッ化リン
SDS phosphorus trifluoride
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
SiHCl3　　トリクロロシラン
Tri Chrolo Silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜Epi(Epitaxial growth)
SiCl4　　四塩化ケイ素
Tetra Chrolo Silane
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜Epi(Epitaxial growth)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜エッチング(Dry etching)
SO2　　亜硫酸ガス（二酸化硫黄)
Sulfur dioxide
標準ガス(Standerd Gases)｜一般標準ガス(Standerd Gases)｜無機成分(Inorganic Components)
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