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AsH3　　アルシン
Arsine
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜イオン注入(Ion implantation)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜化合物半導体(Compound Semiconductor)｜CVD(Chemical Vapor Deposition)
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜化合物半導体(Compound Semiconductor)｜イオン注入(Ion implantation)
Al(CH3)3　　TMA（トリメチルアルミニウム）
Trimetylaluminuim
半導体材料ガス(Electronics Gases)｜シリコン半導体・液晶(Silicon Semiconductor・LCD)｜High-K(High-K)
Ar　　アルゴン
Argon
高純度ガス(Pure Gases)｜無機ガス(Inorganic Gases)
Air　　圧縮空気
Air
高純度ガス(Pure Gases)｜無機ガス(Inorganic Gases)
Ar　　アルゴン
Argon
標準ガス(Standerd Gases)｜一般標準ガス(Standerd Gases)｜無機成分(Inorganic Components)
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