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基板回転機構を備えた成膜装置 -エレクトロニクス分野

複数の大口径基板を保持したサセプタの安定回転を実現した自公転型MOCVD(登録特許第4537566号)

本特許は複数の基板を保持するサセプタを回転させるとともに、この基板を自転させながら成膜処理を行う自公転型の基板回転機構を備えたMOCVD装置に関します。

本特許の特徴である基板回転機構は次の公転駆動機構と自転機構を組み合わせた構成を有しています。

(1)公転駆動機構
円板形上のサセプタをベースプレートで回転自在に保持して公転駆動ギアによって外周から公転駆動させる機構
(2)自転機構
リング形状の基板トレイを、サセプタに複数配された基板トレイ保持部で回転自在に保持して自転機構により回転させる機構

特長

  • 複数の大口径のサセプタを安定して回転することができ、多数枚の基板への成膜処理を施すことが可能です。
  • 成膜処理空間内部に所望の温度分布を形成し、かつ基板を自公転させることにより、成膜速度の均一性が得られその結果基板間および基板面内の均一性を得ることができます。

海外特許

米国特許6837940号

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