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有償開放特許紹介

大陽日酸は、出願した特許を自社における実施に留まらず他者へのライセンス供与など有効活用を図るため、独立行政法人工業所有権情報・研修館が運営する「開放特許情報データベース 新しいウィンドウが開きます」に登録し、広く開放しています。

大陽日酸が保有する有償開放特許

圧縮酸素ガスの充填方法 新しいウィンドウが開きます

圧縮酸素ガスを安全に充填する技術。バイパスラインを用いて低圧時の流速を抑え、樹脂製パッキンの発火を防ぐ技術、出荷前分析で、万が一の発火を検知したり、発火で生じた不純物ガスが混合した製品の出荷を防ぐ技術を含む。

半導体絶縁膜のダメージ回復方法 新しいウィンドウが開きます

プラズマ処理によって損傷した絶縁膜を、量産性に優れたドライプロセスにより回復させる方法と、その回復剤に関する技術。

半導体製造装置の洗浄方法 新しいウィンドウが開きます

地球温暖化に影響を与えるフッ素含有ガスの排出を抑制するとともに、各種パーツの損傷を抑えつつ、高いクリーニング特性を維持するチャンバー内をクリーニング技術。

ガス中に含まれる極微量不純物の分析方法 新しいウィンドウが開きます

ガスクロマトグラフ/大気圧イオン化質量(GC/APIMS)分析法により、ガス中に含まれるppbオーダーの極微量な不純物の濃度を測定可能にする分析技術。

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