エレクトロニクス/高純度ガス精製装置

POUに用いる小型の精製器からプラント規模の超大型精製装置まで豊富なラインナップを持ち、国内外のデバイスメーカー様や大学研究機関様などに豊富な納入実績を有しています。

精製装置

高純度 不活性ガス精製装置(Inert Gas Purifier):常温吸着式

精製対象ガス

窒素(N2 SPNPシリーズ
アルゴン(Ar) SPAPシリーズ
ヘリウム(He) SPRPシリーズ

酸素(O2)、二酸化炭素(CO2)、一酸化炭素(CO)、水素(H2)および水分(H2O)などの不純物成分を常温で吸着除去して、不活性ガスを超高純度に精製します。メタン(CH4)など炭化水素を除去する仕様もオプションにて承ります。

高純度 希ガス精製装置(Rare Gas Purifier):ゲッター吸着式

精製対象ガス

アルゴン(Ar) SPAGシリーズ
ヘリウム(He) SPRGシリーズ

窒素(N2)、メタン(CH4)、酸素(O2)、二酸化炭素(CO2)、一酸化炭素(CO)および水分(H2O)などの不純物成分を特殊ゲッターで除去して、希ガスを超高純度に精製します。水素(H2)を除去する仕様もオプションにて承ります。

高純度 酸素ガス精製装置(Oxygen Purifier):触媒酸化・常温吸着式

精製対象ガス

酸素(O2 SPOPシリーズ

メタン(CH4)、二酸化炭素(CO2)、一酸化炭素(CO)、水素(H2)および水分(H2O)などの不純物成分を触媒で酸化して吸着除去し、酸素を超高純度に精製します。

高純度 水素ガス精製装置(Hydrogen Purifier)

精製対象ガス

水素(H2 SPHPシリーズ:常温吸着式

酸素(O2)、二酸化炭素(CO2)、一酸化炭素(CO)および水分(H2O)などの不純物成分を常温で吸着除去し、水素を超高純度に精製します。

精製対象ガス

水素(H2 SPHLシリーズ:低温吸着式

酸素(O2)、二酸化炭素(CO2)、一酸化炭素(CO)、水分(H2O)に加え、メタン(CH4)および窒素(N2)も除去できる液体窒素を使用する極低温吸着の精製装置です。

高純度 アンモニアガス精製装置(Ammonia Purifier):常温吸着式

精製対象ガス

アンモニア(NH3 SPMPシリーズ

酸素(O2)と水分(H2O)を常温で吸着除去し、化合物半導体の製造などに用いられるアンモニアを超高純度に精製します。

インライン精製器(In-Line Purifier)

ラインナップは LPIシリーズとNanochem(ナノケム)シリーズ の2種類となります。化学吸着、物理吸着により各種不純物成分を除去し、特殊材料ガスやバルクガスを超高純度に精製します。

精製対象ガス

バルクガス LPIシリーズ
特殊材料ガスおよびバルクガス Nanochemシリーズ
  • ※特殊材料ガス:塩化水素(HCl)、臭化水素(HBr)、アンモニア(NH3)、モノシラン(SiH4)など
  • ※バルクガス:窒素(N2)、アルゴン(Ar)、酸素(O2)、水素(H2)など
  • ※Nanochemシリーズ:米国Matheson Tri-Gas社の特殊材料ガス用インライン精製器

お問い合わせ